自动片式射频等离子清洗机

(RPD-5)

设备功能及应用

主要用于芯片贴装、引线键合、底部胶填充、模塑等半导体封装工艺前的清洗和表面活化,有效去除封装物料表面的有机污染物和氧化物,提高界面粘接和键合性能,大幅优化封装良率。配置高效的引线框架或基板自动上下料系统,该设备具有清洗周期短和均匀性好等特点,尤其适用于对清洗效果要求非常高的批量生产应用。

产品特点

  • 增强的表面处理效果
  • 产品清洗均匀性好和一致性高
  • 高产能(5轨道450片/小时)
  • 料盒式上下料,片式清洗
  • 引线框架自动上下料设计(标准4轨道/最多5轨道)
  • 轨道宽度可快速自动调节
  • 特有的腔室底部气冷设计
  • 工艺过程智能化操作和显示
  • 基于工控机的触屏控制系统

规格表

等离子频率13.56MHz
等离子功率
标准600W (可选1000W)
电极冷却气冷,位于腔室底部
轨道数量标配4轨道(数量可定制,最多5轨道)
轨道宽度30-60mm(5轨道),30-80mm(4轨道),大于80mm(1-3轨道),可快速自动调节
UPH450片(5轨道模式)
腔内尺寸W280mm✕D440mm✕H55mm
质量流量计
标配2个,流量100sccm / MFC
真空规皮拉尼规或电容薄膜规
真空泵内置,抽速≥50m3/h
控制系统Windows触摸屏工控机+PLC控制,支持手动和自动操作,支持工艺程序编辑/存储/运行,支持工艺数据自动记录和显示,支持连接MES系统
外尺寸W1800mm✕D1080mm✕H1500mm(不含三色灯)
重量约700kg
电源AC380V, 3P+N+PE, 50Hz, 4kW

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