自動片式射頻等離子清洗機
(RPD-5)
設備功能及應用
主要用於晶片貼裝、引線鍵合、底部膠填充、模塑等半導體封裝工藝前的清洗和表面活化,有效去除封裝物料表面的有機污染物和氧化物,提高介面粘接和鍵合性能,大幅優化封裝良率。配置高效的引線框架或基板自動上下料系統,該設備具有清洗週期短和均勻性好等特點,尤其適用於對清洗效果要求非常高的批量生產應用。
產品特點
- 增強的表面處理效果
- 產品清洗均勻性好和一致性高
- 高產能(5軌道450片/小時)
- 料盒式上下料,片式清洗
- 引線框架自動上下料設計(標準4軌道/最多5軌道)
- 軌道寬度可快速自動調節
- 特有的腔室底部氣冷設計
- 工藝過程智慧化操作和顯示
- 基於工控機的觸屏控制系統
規格表
| 等離子頻率 | 13.56MHz |
| 等離子功率 | 標準600W (可選1000W) |
| 電極冷卻 | 氣冷,位於腔室底部 |
| 軌道數量 | 標配4軌道(數量可定制,最多5軌道) |
| 軌道寬度 | 30-60mm(5軌道),30-80mm(4軌道),大於80mm(1-3軌道),可快速自動調節 |
| UPH | 450片(5軌道模式) |
| 腔內尺寸 | W280mm✕D440mm✕H55mm |
| 品質流量計 | 標配2個,流量100sccm / MFC |
| 真空規 | 皮拉尼規或電容薄膜規 |
| 真空泵 | 內置,抽速≥50m3/h |
| 控制系統 | Windows觸控式螢幕工控機+PLC控制,支援手動和自動操作,支援工藝程序編輯/存儲/運行,支援工藝資料自動記錄和顯示,支援連接MES系統 |
| 外形尺寸 | W1800mm✕D1080mm✕H1500mm(不含三色燈) |
| 重量 | 約700kg |
| 電源 | AC380V, 3P+N+PE, 50Hz, 4kW |












